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ENG CN KOR
R&D
R&D
We will lead the construction of a sustainable future through constant R&D and technological innovation.
R&D
Research areas
R&D STATUS
We are conducting R&D to develop and localize various materials for next-generation etching, deposition, and cleaning processes by preemptively securing core technologies for synthesis, purification, and process evaluation of specialty gases for various semiconductor/display applications.

We are also focusing on securing sustainable growth engines by developing eco-friendly/low-carbon industrial gases to realize carbon neutrality.
Key research areas
Synthesis/purification
Specialty gas synthesis and ultra-high purity purification (adsorption/distillation/extraction), Chemical Process Simulation
Process development
Dry etching processes (dielectric and metal etching, cryogenic etching, ALE), molecular modeling (Molecular Dynamics Simulation)
Electronic Specialty Gas R&D
Lab Scale
1. Simulation for molecular design
2. Lab Scale synthesis for feasibility test
3. Development of synthesis, purification process
Pilot Scale
1. Pilot facility for scale-up test
2. Parameter set-up for quality control
3. Batch test for production stabilization
4. operating condition optimization
Etching Gases R&D
Low GWP Etching Gas Development
Climate Policy paradigm shift following launch of new climate system and declaration of carbon neutrality.
[2023 ~ 2030 Gov’t-funded Project [Development of Core Technologies for Carbon Neutral Industries]
특허명 출원일 출원번호 등록번호
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법 2011-04-05 10-2011-0031003 10-1198349 B1
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기 2011-04-05 10-2011-0031004 10-1198350 B1
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치 2011-04-05 10-2011-0031005 10-1198351 B1
펜타플루오로에틸요오다이드의 정제방법 2012-02-28 10-2012-0020494 10-1236713 B1
플루오르화붕소의 정제방법 2012-02-28 10-2012-0020495 10-1202421 B1
플루오르화붕소의 정제장치 2012-02-28 10-2012-0020496 10-1202422 B1
암모니아 보란의 합성 시스템 및 이를 이용한 암모니아 보란의 제조방법 2012-09-04 10-2012-0097931 10-1255757 B1
헥사플루오르플로필렌옥사이드 고순도 정제방법 2013-05-22 10-2013-0057619 10-1433626
암모니아 보란의 연속 합성 공정 시스템 및 이를 이용한 암모니아 보란의 제조방법 2013-10-16 10-2013-0123152 10-1568142 B1
초임계 유체를 이용한 암모니아 보란의 재생방법 2015-01-19 10-2015-0008923 10-1639622 B1
초임계 유체를 이용한 암모니아 보란의 재생 시스템 2015-01-19 10-2015-0008927 10-1639621 B1
테트라플루오르메탄의 고순도 정제방법 2015-09-25 10-2015-0136414 10-2074832
디보란 정제장치 및 정제방법 2016-04-05 10-2016-0041437 10-1799380
암모니아 흡착장치 2017-01-24 10-2017-0010856 10-1902776
암모니아 발생 및 방출 장치 2017-01-24 10-2017-0010857 10-1985730
플루오르화붕소 정제방법 2017-01-24 10-2017-0011256 10-1868811
식각 가스 혼합물과 이를 이요한 패턴 형성 방법과 집적회로 소자의 제조 방법 2017-11-16 10-2017-0153318 10-2504833
고수율의 클로로폴리실란의 제조방법 2019-04-17 10-2019-0045072 10-2246599
실란합성을 위한 촉매 및 이의 제조방법 2019-10-01 10-2019-0121551 10-2313138
실란합성을 위한 촉매 재생 방법 및 이 방법으로 제조된 촉매 2019-10-01 10-2019-0121555 10-2313140
함불소 환형 황화합물의 제조방법 2020-04-09 10-2020-0043578 10-2357131
시각 가스 혼합물과 이를 이용한 패턴 형성 방법 2020-08-04 10-2020-0097454 10-2244862
함불소 환형 황 화합물의 연속적인 제조방법 2020-09-07 10-2020-0113615 10-2478247
올리고실란의 제조방법 2020-11-30 10-2020-0163827 10-2388957
올리고실란의 제조방법 및 이를 위한 장치 2020-11-30 10-2020-0163821 10-2388956
디실란의 제조방법 2020-12-28 10-2020-0184648 10-2391319
높은 선택비를 갖는 식각 가스 조성무로가 이를 이용한 반도체 메모리 소자의 제조 공정 2021-02-03 10-2021-0015105 10-224885