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| CVD / Diffusion | Etching / Cleaning |
| NH3 | C4F8 |
| N2O | SF6 |
| NO | F2 Mix |
| C3H6 | CF4 |
| Si2H6 | CH2F2 |
| GeH4 Mix | SiCl4 |
| Implant / Doping | Excimer Laser |
| BCl3 Mix | 3.5% Ar / 10ppm Xe / Ne |
| BF3 | 0.95% F2 / 3.5% Ar / Ne |
| PH3 Mix | 1.25% Kr / Ne |
| C2H4 | 0.95% F2 / 1.25% Kr / Ne |
