Wonik Materials

企业概况 | CEO致辞 | 沿革 | 愿景 I 圆益核心价值 | CI介绍 | 访问 | R&D

R&D

About the lab

Research areas

Specialty Gas

Hydrogen

Precursors

R&D STATUS

We are conducting R&D to develop and localize various materials for next-generation etching, deposition, and cleaning processes by preemptively securing core technologies for synthesis, purification, and process evaluation of specialty gases for various semiconductor/display applications.

We are also focusing on securing sustainable growth engines by developing eco-friendly/low-carbon industrial gases to realize carbon neutrality.

Key research areas

Synthesis/purification

Specialty gas synthesis and ultra-high purity purification (adsorption/distillation/extraction), Chemical Process Simulation

Process development

Dry etching processes (dielectric and metal etching, cryogenic etching, ALE), molecular modeling (Molecular Dynamics Simulation)

Electronic Specialty Gas R&D

Lab Scale

1. Simulation for molecular design
2. Lab Scale synthesis for feasibility test
3. Development of synthesis, purification process

Pilot Scale

1. Pilot facility for scale-up test
2. Parameter set-up for quality control
3. Batch test for production stabilization
4. operating condition optimization

Etching Gases R&D

Low GWP Etching Gas Development

Climate Policy paradigm shift following launch of new climate system and declaration of carbon neutrality.

[2023 ~ 2030 Gov’t-funded Project [Development of Core Technologies for Carbon Neutral Industries]

특허명	출원일	출원번호	등록번호
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법	2011-04-05	10-2011-0031003	10-1198349 B1
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기	2011-04-05	10-2011-0031004	10-1198350 B1
고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치	2011-04-05	10-2011-0031005	10-1198351 B1
펜타플루오로에틸요오다이드의 정제방법	2012-02-28	10-2012-0020494	10-1236713 B1
플루오르화붕소의 정제방법	2012-02-28	10-2012-0020495	10-1202421 B1
플루오르화붕소의 정제장치	2012-02-28	10-2012-0020496	10-1202422 B1
암모니아 보란의 합성 시스템 및 이를 이용한 암모니아 보란의 제조방법	2012-09-04	10-2012-0097931	10-1255757 B1
헥사플루오르플로필렌옥사이드 고순도 정제방법	2013-05-22	10-2013-0057619	10-1433626
암모니아 보란의 연속 합성 공정 시스템 및 이를 이용한 암모니아 보란의 제조방법	2013-10-16	10-2013-0123152	10-1568142 B1
초임계 유체를 이용한 암모니아 보란의 재생방법	2015-01-19	10-2015-0008923	10-1639622 B1
초임계 유체를 이용한 암모니아 보란의 재생 시스템	2015-01-19	10-2015-0008927	10-1639621 B1
테트라플루오르메탄의 고순도 정제방법	2015-09-25	10-2015-0136414	10-2074832
디보란 정제장치 및 정제방법	2016-04-05	10-2016-0041437	10-1799380
암모니아 흡착장치	2017-01-24	10-2017-0010856	10-1902776
암모니아 발생 및 방출 장치	2017-01-24	10-2017-0010857	10-1985730
플루오르화붕소 정제방법	2017-01-24	10-2017-0011256	10-1868811
식각 가스 혼합물과 이를 이요한 패턴 형성 방법과 집적회로 소자의 제조 방법	2017-11-16	10-2017-0153318	10-2504833
고수율의 클로로폴리실란의 제조방법	2019-04-17	10-2019-0045072	10-2246599
실란합성을 위한 촉매 및 이의 제조방법	2019-10-01	10-2019-0121551	10-2313138
실란합성을 위한 촉매 재생 방법 및 이 방법으로 제조된 촉매	2019-10-01	10-2019-0121555	10-2313140
함불소 환형 황화합물의 제조방법	2020-04-09	10-2020-0043578	10-2357131
시각 가스 혼합물과 이를 이용한 패턴 형성 방법	2020-08-04	10-2020-0097454	10-2244862
함불소 환형 황 화합물의 연속적인 제조방법	2020-09-07	10-2020-0113615	10-2478247
올리고실란의 제조방법	2020-11-30	10-2020-0163827	10-2388957
올리고실란의 제조방법 및 이를 위한 장치	2020-11-30	10-2020-0163821	10-2388956
디실란의 제조방법	2020-12-28	10-2020-0184648	10-2391319
높은 선택비를 갖는 식각 가스 조성무로가 이를 이용한 반도체 메모리 소자의 제조 공정	2021-02-03	10-2021-0015105	10-224885